WaveMaster® Compact 2 - Ideal für die Wellenfront-Messung von Einzellinsen und optischen Systemen in der Qualitätssicherung

WaveMaster® Compact 2 for Shack-Hartmann based wavefront measurement
WaveMaster® Compact 2 for Shack-Hartmann based wavefront measurement

Der WaveMaster® Compact 2 wird sowohl in der Entwicklung als auch in der Qualitätskontrolle sphärischer und asphärischer Optiken eingesetzt. Es ist ein präzises Instrument, dass nach dem Shack-Hartmann-Prinzip arbeitet. Die Handhabung ist einfach und erlaubt schnelle Messungen.

Hauptmerkmale

  • Schnell und einfach auf unterschiedliche Prüflingstypen anpassbar, austauschbare Vergrößerungsoptik in kinematischer Halterung
  • Hohe Messgeschwindigkeit für hohen Probendurchsatz
  • Prüflingshalter für genaue Ausrichtungen
  • Bei Wellenfront-Messungen von Prüflingsserien ist nur ein minimales Nachausrichten der Prüflinge erforderlich
  • Hohe Messgenauigkeit von bis zu λ/20
  • Automatische Fokussierung der Lichtquelle
  • Automatische Positionierung des Wellenfront-Sensors und der Abbildungsoptik in der Austrittspupille
  • Echtzeit-Abgleich zwischen Wellenfrontdaten und Musterlinsen oder Designwerten
  • Punktlichtquelle mit unterschiedlichen numerischen Aperturen erhältlich (bis 0,95)
  • Vibrationsunempfindlicher Aufbau
  • Umfangreiche Softwarefunktionen für die Messung und Analyse

Anwendungen

Der WaveMaster® Compact 2 ermittelt mit dem eingebauten Shack-Hartmann-Sensor folgende Parameter:

  • Messung der Wellenfront (PV, RMS)
  • Bestimmung der Zernike Koeffizienten
  • Messung der Punktbildfunktion (PSF)
  • Messung der Modulationsübertragungsfunktion (MTF)
  • Messung des Strehl- Verhältnisses
  • Keilwinkel