{"id":2739,"date":"2019-09-13T16:33:19","date_gmt":"2019-09-13T14:33:19","guid":{"rendered":"https:\/\/trioptics.com\/de2\/?page_id=2739"},"modified":"2024-04-24T08:39:45","modified_gmt":"2024-04-24T06:39:45","slug":"halbleitertechnik","status":"publish","type":"page","link":"https:\/\/trioptics.com\/de\/maerkte-loesungen\/halbleitertechnik\/","title":{"rendered":"Halbleitertechnik"},"content":{"rendered":"

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Der technologische Wegbereiter der Optik<\/p><\/h1><\/div>

Im Hochtechnologie-Segment der Halbleitertechnik liegt unser Augenmerk auf den Beleuchtungsoptiken zur Chipherstellung. Diese gro\u00dfen und besonders pr\u00e4zisen Objektive und Spiegeloptiken arbeiten im UV- bzw. EUV-Bereich. Mit ihren au\u00dfergew\u00f6hnlichen Eigenschaften bereiten sie den Weg f\u00fcr viele andere M\u00e4rkte.<\/p>\n<\/div>

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“Die Wahrnehmung f\u00fcr den Massenmarkt ist sehr gering, aber die Technologie hinter den extrem ultravioletten (EUV) Lithografiesystemen, die sich endlich zur Serienproduktion in Chipherstellungsanlagen auf der ganzen Welt entwickeln, sollte als eines der Wunderwerke des modernen Industriezeitalters angesehen werden.”<\/strong><\/em><\/span><\/h3>\n

Photonics News, 18. Oktober 2019 – optics.org<\/span><\/p>\n<\/div><\/div><\/div>

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Aufbau von Beleuchtungsoptiken zur Chipherstellung<\/h2><\/div>

Die Qualit\u00e4tsanforderungen an Beleuchtungsoptiken zur Chipherstellung sind enorm.\u00a0 Um EUV-Systeme, die ab einem Verkaufswert von\u00a0 100 Millionen US$ vertrieben werden, herzustellen bedarf es w\u00e4hrend des Aufbaus:<\/p>\n<\/div>

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    Genauigkeiten im Nanometer-Bereich oder sogar im Sub-Nanometer Bereich, wenn es um einzelnen Oberfl\u00e4chen geht<\/p>\n<\/div><\/li>

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    Extreme Stabilit\u00e4t und Steifigkeit zur Erzielung einer hohen Wiederholgenauigkeit<\/p>\n<\/div><\/li>

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    Einhaltung eines 6-Sigma Qualit\u00e4tsprozesses bez\u00fcglich der Bedienung und den Spezifikationen<\/p>\n<\/div><\/li><\/ul>

    Beim Aufbau dieser hochgenauen Objektive werden die einzelnen Linsenelemente sowohl zu Ihrer Fassung als auch zueinander mithilfe der Zentrierpr\u00fcfung ausgerichtet. Eine Verifizierung der Abbildungsqualit\u00e4t erfolgt \u00fcber eine MTF- oder Wellenfrontpr\u00fcfung.<\/p>\n

    Die Gr\u00f6\u00dfe der Optiken macht den Wechsel zwischen verschiedenen Messsystemen besonders schwierig. Daher ist der Integration Messsysteme in einen effizienten Arbeitsprozess au\u00dferordentlich wichtig.<\/p>\n<\/div>

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    Unsere Produkte f\u00fcr die Halbleitertechnik<\/h2><\/div>
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